会社案内
1972年
- 5月1日創業
- 電池用BCI3シリコンウエハープロセスの開発
- シリコン光電池の発売
- プレーナタイプ光電池の発売
- さん孔テープリーダ、IBMカード、ユニバックカード、マーク読み取り用受光素子の発売
- 火災報知機用煙感知器にプレーナタイプの光電池が採用
1973年
- 6月15日 株式会社組織となる
株式会社光電子工業研究所 設立
資本金300万円
代表取締役社長 中嶋郭和 就任
- 全特性高性能フォトダイオードの発売
1974年
- 資本金600万円に増資（5月）
- 工業用シリコン光電変換素子（太陽電池）の発売
1975年
- 東京支店開設（9月）
- さん孔テープ光電読み取りヘッドの発売
1976年
- 韓国事務所開設（10月）
- 可視発光ダイオードの（ランプ、数字表示素子）開発開始
1977年
- 資本金1,200万円に増資（4月）
- テレビ用リモコン受光素子の発売
- 2チップフォトトランジスタ、フォトダーリントンの発売
テレビリモコン用フォトダイオード
1978年
- 資本金2,400万円に増資（4月）
- 腕時計用太陽電池月産40万個
- 日本エレクトロニクスショーに光半導体専門として初出展
- 太陽電気付きの腕時計1000台予約販売
腕時計用太陽電池
1979年
- 電力用太陽電池の発売
- 電卓用太陽電池の発売
- シリコンウエハープロセスラインを本社工場に設置
- BBr3拡散プロセスの開発
- ブルーセルの発売
- エルタキシャルウエハー型フォトトランジスタの開発
- 1チップフォトトランジスタの発売
- GaAs赤外発光ダイオードの開発
電卓用太陽電池
エピタキシャルウエハー型フォトトランジスタ
